二硅化钼加热元件由高纯二硅化钼制成。在氧化气氛下,MoSi2元件在高温燃烧的表面上形成一层致密的石英玻璃保护膜,以防止二硅化钼连续氧化。在氧化气氛下,其最高使用温度可达1800℃,通常适用温度为500-1700℃。
二硅化钼加热元件通常作为烧结和热处理广泛用于陶瓷、磁铁、玻璃、冶金和耐火材料。我们可以根据客户的应用提供ED型,W型,U型,L型或其他定制品。
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二硅化钼加热元件由高纯二硅化钼制成。在氧化气氛下,MoSi2元件在高温燃烧的表面上形成一层致密的石英玻璃保护膜,以防止二硅化钼连续氧化。在氧化气氛下,其最高使用温度可达1800℃,通常适用温度为500-1700℃。
二硅化钼加热元件通常作为烧结和热处理广泛用于陶瓷、磁铁、玻璃、冶金和耐火材料。我们可以根据客户的应用提供ED型,W型,U型,L型或其他定制品。